职称：讲师

学历：博士研究生

专业：等离子体物理

方向：功能薄膜制备与表征，等离子体诊断

Email：whh26132@126.com

地址：河南省平顶山市未来路南段beats365官方网站

邮编：467000

个人简介

王行行，博士，讲师，主讲《工程电磁场》、《大学物理》等课程，以第一作者发表SCI论文2篇，主持科技攻关项目1项，参与河南省教育厅项目1项，指导员工参加学科竞赛获得省级二等奖1项。主要研究方向是薄膜材料的制备及表征与低温等离子体探针诊断。在薄膜的制备与表征方面，主要采用材料基因组方法研究碳化硅薄膜的半导体性能、机械性能和高温抗氧化性能；在等离子体诊断方面，主要通过静电探针和发射光谱对射频和微波等离子体进行诊断研究。

教育经历

2012.09—2022.06 大连理工大学 物理公司 博士

2010.09—2012.09 大连理工大学 物理与光电工程公司 硕士

2006.09—2010.09 河南科技大学 物理工程公司 本科

工作经历

2022.08—至今 beats365官方网站 讲师

科研项目与获奖

1.双源磁控共溅射高通量制备技术的优化及其在SiC薄膜研究中的应用 河南省科技攻关项目

论文、专著与专利

1.Wang hanghang, Zhang Liyan, Lu Wenqi, et al. Continuous compositional spread investigation of SiC-based thin films prepared by MW-ECR plasma enhanced magnetron co-sputtering [J]. Plasma Science and Technology, 2020, 22(3): 034010.

2. Wang hanghang, Lu Wenqi, Zhang jiao, et al. Comparative Study of High Temperature Anti-oxidation Property of Sputtering Deposited Stoichiometric and Si-rich SiC Films [J]. Chinese Physics B, 2022, 31(4):048103

3.Pang Jianhua, Lu Wenqi, Xin Yu,Wang hanghang, et al. Plasma diagnosis for microwave ECR plasma enhanced sputtering deposition of DLC films [J]. Plasma Science and Technology, 2012, 14(2): 172.

4.Zhang Yu,Xu jun, Zhou Dayu,Wang hanghang, et al. Structural and electrical properties of reactive magnetron sputtered yttrium-doped HfO2 films [J]. Chinese Physics B, 2018, 27(4): 048103.

5.谭伟, 徐军, 王行行, 等. 射频反应磁控溅射制备AlN 多晶薄膜及其择优取向研究[J]. 真空科学与技术学报, 2016 (10): 1092-1098.

主讲课程

《工程电磁场》

《大学物理》